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上个月英特尔晶圆代工（Intel Foundry）宣布，已在美国俄勒冈州希尔斯伯勒的英特尔半导体技术研发基地完成了业界首台High-NAEUV光刻机组装工作。随后开始在Fab D1X进行校准步骤，为未来工艺路线图的生产做好准备。英特尔运营新模式英特尔是少数采用IDM模式的芯片厂商，完整覆盖了芯片从设计到生产再到销售的全过程，产
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5月8日消息，ASML最先进EUV光刻机今年订单已经被Intel包揽，其单台售价超过了25亿元。据悉，ASML截至明年上半年最先进EUV设备的订单已经由英特尔承包，而今年计划生产的五套设备也将全部运给这家美国芯片制造商。按照消息人士的说法，由于上述EUV设备产能每年约为5到6台，这意味着英特尔将获得所有初始库存。这也导致，英特
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前段时间有人留言，想了解半导体究竟是什么，和导体绝缘体有什么关系？然后罗叔做了调查，发现大多数人，一听到半导体这个名字的时候，第一时间想到的就是半导体产业，但要他们说一下半导体到底是什么，又说不出个所以然。因此本篇视频就来给大家介绍，半导体的“前世今生”。半导体是什么？芯片为什么和半导体密不可分？为
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光刻机一直是半导体领域的一个热门话题。从早期的深紫外光刻机（DUV）起步，其稳定可靠的性能为半导体产业的发展奠定了坚实基础；再到后来的极紫外光刻机（EUV）以其独特的极紫外光源和更短的波长，成功将光刻精度推向了新的高度；再到如今的高数值孔径光刻机（High-NA）正式登上历史舞台，进一步提升了光刻的精度和效率，为
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芯片巨头英特尔近日喜获业内首台具有 0.55 数值孔径（High-NA）的 ASML 极紫外（EUV）光刻机，将助力其在未来几年实现更先进的芯片制程。与之形成鲜明对比的是，另一巨头台积电则按兵不动，似乎并不急于加入这场下一代光刻技术的竞赛。业内分析师预计，台积电可能要到 2030 年甚至更晚才会采用这项技术。英特尔此次获得的&n
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近来，因为佳能发布了号称可以生产2nm的新一代纳米压印光刻机，引起了大家对其与ASML竞争的广泛讨论。不过，semiwiki的作者Robert Maire在其文章中毫不客气地抨击了大家的这种观点。他首先表示，过去几周对佳能过度反应和当初对应用材料的Sculpta一样。他同时指出，纳米压印虽然已经取得了巨大进步，但仍然没有竞争力。在他
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晶圆代工厂是指专门从事半导体晶圆代工的制造商，负责将芯片设计公司的芯片设计图纸制造成实际的芯片产品。 工艺是指半导体制造过程中使用的工艺流程和设备。据最新消息，一些知名代工厂已宣布将在明年第一季度大幅降低芯片制造报价。 这意味着明年一季度芯片制造价格可能进一步下跌。老牌 OEM 制造商正面临着捍卫 60% 产能
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高数值孔径 （ High -NA ） EUV 光刻 机 刚刚起步，ASML又开始 致力于开发 超数孔径Hyper-NA EUV光刻机。 ASML 名 誉首席技术官 Martin van den Brink在安特卫普举行的Imec技术论坛（ITF）上发表演讲时透露了公司的未来规划。 他表示，在未来十年内，ASML将构建一个集成低数值孔径、高数值孔
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5 月 23 日消息，据荷兰媒体 Bits&Chips 报道，ASML顾问、前任 CTO 马丁・范登布林克（Martin van den Brink）近日称，这家光刻机制造商考虑推出一个通用 EUV 光刻平台。范登布林克在本月 21~22 日举行的 2024 年度 imec ITF World 技术论坛上表示：我们提出了一个长期（也许十年）的路线图：我们将拥有一个包含
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5月22日消息，据外媒报道称，ASML声称可以远程瘫痪旗下售出的光刻机，这引来网友的围观。现在，报道中有给出了更多有趣的细节，比如ASML表示可以远程瘫痪（remotely disable）相应机器，包括最先进的极紫外光刻机（EUV）。消息人士称，EUV需要频繁维护，如果没有ASML提供的备件，这些机器很快就会停止工作。此外，EUV的现场
